| Forschung, Service

Rowena-Morse-Mentoring-Programm für Nachwuchswissenschaftlerinnen und -künstlerinnen geht in die dritte Runde

Nach einem erfolgreichen Start im Oktober 2018 geht das thüringenweite Rowena-Morse-Mentoring-Programm für Nachwuchswissenschaftlerinnen und -künstlerinnen an den Thüringer Hochschulen im November 2020 in die inzwischen dritte Runde. Der Bewerbungszeitraum läuft bis zum 16. August. Das Auswahlverfahren erfolgt an der jeweiligen Hochschule.

Das Rowena-Morse-Mentoring-Programm (RMMP) der Thüringer Hochschulen ist ein Förderangebot für Nachwuchswissenschaftlerinnen und Nachwuchskünstlerinnen der Hochschulen im Freistaat Thüringen. Namensgeberin für das Programm ist Rowena Morse, die 1904 als erste Frau ihre Promotion in Thüringen erfolgreich abschloss. Das Mentoring‐Programm begleitet fächerübergreifend Doktorandinnen in der Endphase ihrer Promotion und Postdoktorandinnen in der Orientierungsphase auf ihrem individuellen Karriereweg. Neben der Vermittlung einer Mentorin bzw. eines Mentors werden spezifische Workshops zur Weiterqualifizierung angeboten. Im Rahmen von Peer‐Mentorings vernetzen sich die Mentees mit (Nachwuchs‐)Wissenschaftlerinnen anderer Thüringer Hochschulen und werden dabei in Gruppen‐Mentorings von erfahrenen Professorinnen und Professoren der Thüringer Hochschulen begleitet. Die Programmlaufzeit beträgt insgesamt 12 Monate und beginnt im November 2020. Finanziert wird das Programm durch das Thüringer Kompetenznetzwerk Gleichstellung. Das Grundkonzept wurde an der Friedrich-Schiller-Universität Jena entwickelt und im Arbeitskreis Mentoring des Thüringer Kompetenznetzwerks Gleichstellung als ein gemeinsames Konzept der Thüringer Hochschulen weiterentwickelt.

Bewerbungen richten Sie bitte mit Empfehlungsschreiben der*des Vorgesetzten bzw. der*des Betreuer*in, kurzem Motivationsschreiben und tabellarischem Lebenslauf an das Gleichstellungsbüro der Universität Erfurt, Nordhäuserstr. 63, Postfach 90 02 21, 99105 Erfurt oder per E-Mail an gleichstellungsbuero@uni-erfurt.de.